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真空等離子清洗機(jī)與傳統(tǒng)濕法清洗優(yōu)劣比較
發(fā)布時間:2019-02-21  瀏覽:
真空等離子清洗機(jī)是因壓等離子技術(shù)的突破與射頻低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用,被廣泛使用于各種行業(yè)領(lǐng)域,尤其是在微電子工業(yè)中的應(yīng)用使清洗更加快速和方便。等離子體清洗過程不會產(chǎn)生污染,工藝過程是安全、環(huán)保、綠色、創(chuàng)新應(yīng)用,可以節(jié)省大量的水資、人力和硫酸。真空等離子處理機(jī)的原理是利用等離子體中的活性氧基團(tuán)與光刻膠反應(yīng)生成二氧化碳和水,也可以利用等離子體中所存在的大量電子和離子對表面進(jìn)行修飾的作用,來改變基底表面的浸潤性和粗糙度。

真空等離子清洗機(jī)

傳統(tǒng)的濕法清洗是采用化學(xué)清洗的方法:如氫氧化氨/雙氧水去除硅片表面的顆粒和有機(jī)物;用鹽酸/雙氧水去除表面金屬;用氫氟酸去除表面自然氧化層;用硫酸/雙氧水去除表面金屬和有機(jī)物。
濕法清洗作為傳統(tǒng)的清洗方法依然還被應(yīng)用,與現(xiàn)在等離子技術(shù)應(yīng)用還是有很多缺點:
1、不能精確控制;
2、容易引入新的雜質(zhì);
3、對殘余物不能處理;
4、消耗大量的酸和水;
5、清洗不徹底,需反復(fù)清洗;
6、污染環(huán)境,需對廢液進(jìn)行處理;

相信通過這樣分析與比較,真空等離子處理機(jī)新技術(shù)的應(yīng)用還是很廣泛的。

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